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真空磁控溅射电阻镀膜机，真空磁控溅射电阻镀膜设备，磁控溅射电阻镀膜机，磁控溅射电阻镀膜设备
更新时间：2016-01-07
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供应分类：上海机械及工业制品 > 上海模具
发布企业：上海沃家真空设备科技有限公司
发布 IP：183.249.*.*
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详细介绍
主要用途
是生产各种金属膜电阻及氧化膜电阻的专用设备，可以完成高、中、低不同阻值的镀膜工艺。
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主要组成
设备由真空室、真空机组、直流溅射源、射频溅射源、分流式滚筒、充气装置、真空测量及其它辅助装置等组成。
设备由真空室、真空机组、直流溅射源、射频溅射源、分流式滚筒、充气装置、真空测量及其它辅助装置等组成。
主要特点
★生产能力大，根据型号的不同，每炉可镀制装载量达分别为10～11Kg、20～25Kg、30～40Kg左右的瓷体。
★磁控溅射源工作特性稳定可靠，沉积速率高，阴极体采用可变磁场，大大提高了靶材的利用率，在40%以上。
★根据不同电阻值和工艺要求配置不同溅射源，工艺适应性强。如配置射频溅射源可镀制介质膜，配备离化源可镀制氧化膜。
★采用特殊分流式滚筒，瓷体镀制膜层均匀，阻值集中。
★如配用PLC可编程控制，设备自动化水平提高，性能更加可靠，操作更为简便。
★调节沉积室的气氛可控沉积膜的阻值和TCR（温度系数）；镀制后电阻在合适的“后调整”热处理后TCR可接近于零。
★生产能力大，根据型号的不同，每炉可镀制装载量达分别为10～11Kg、20～25Kg、30～40Kg左右的瓷体。
★磁控溅射源工作特性稳定可靠，沉积速率高，阴极体采用可变磁场，大大提高了靶材的利用率，在40%以上。
★根据不同电阻值和工艺要求配置不同溅射源，工艺适应性强。如配置射频溅射源可镀制介质膜，配备离化源可镀制氧化膜。
★采用特殊分流式滚筒，瓷体镀制膜层均匀，阻值集中。
★如配用PLC可编程控制，设备自动化水平提高，性能更加可靠，操作更为简便。
★调节沉积室的气氛可控沉积膜的阻值和TCR（温度系数）；镀制后电阻在合适的“后调整”热处理后TCR可接近于零。
上海沃家真空设备科技有限公司是国内领先的真空镀膜工程集成供应商，紧紧围绕客户需求持续创新，为客户创造最大价值。我们对全球伙伴开放合作，在新能源新材料、建筑/汽车、精密制造、重工/军工等领域构建技术与服务优势。我们致力于为企业、科研院所、薄膜涂层加工中心等提供有竞争力的综合解决方案和服务。
本公司产品主要有：连续式磁控溅射镀膜生产线、平面弧工模具硬质涂层设备、多功能中频磁控溅射多弧复合离子镀膜机、中频磁控溅射镀膜机、多弧离子镀膜机、光学镀膜机等系列真空镀膜设备。产品广泛用于太阳能、半导体、Low-E玻璃、光电、平板显示、工模具、钟表五金、3C产品、塑料、陶瓷等。本公司拥有完善的研发体系、生产制造体系及客户服务体系，并聘请国内外多位知名专家。目前，产品遍布全国各地及海外，工艺应用于数百家客户。
公司是全体员工价值实现和价值提升的平台，致力于为客户提供最优质最环保的表面处理解决方案，进一步整合公司内外资源，加大研发投入，不断推出新技术、新产品，以满足国内外市场需求，创造最佳的社会、经济和环境效益。
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